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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

北京華測儀器高溫管式爐/測試儀器

產(chǎn)品型號(hào):HCGL-1000

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2023-08-09

產(chǎn)品簡介:

北京華測儀器高溫管式爐/測試儀器可以勻速、階梯(升降溫)、循環(huán)沖擊,真空、氣氛等多種的加熱方式,采用電子控制技術(shù),*可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi),溫控精度之高。 加熱速度之快,同時(shí)它可以提供了材料的多種測試環(huán)境。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測

北京華測儀器高溫管式爐

北京華測儀器高溫管式爐/測試儀器產(chǎn)品介紹:


目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也實(shí)現(xiàn)不了溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻 ,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

北京華測儀器高溫管式爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。

同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!

本試驗(yàn)爐具有:1000度、1200度、1400度各種型號(hào)。也可根據(jù)用戶需求訂制!

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反射鏡是具有高的精度曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設(shè)備優(yōu)勢:

高速加熱與冷卻方式:高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制:過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻:加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線 可傳送到加熱/冷卻室。


北京華測儀器高溫管式爐/測試儀器


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